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篇名 以原子層化學氣相沉積之高介電薄膜於金氧平場效電晶場的應用
卷期 29:1=159
並列篇名 Atomic-Layer-Deposited High-κ Dielectrics Used as the Gate Oxides for the MOSFET Application
作者 邱彥凱 、 張哲豪 、 吳泰伯
頁次 6-13
出刊日期 200708

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