文章詳目資料

科儀新知

  • 加入收藏
  • 下載文章
篇名 用於次25奈米極紫外光曝光機之新穎反射型衰減式相位移光罩
卷期 27:2=148
並列篇名 A Novel Structure of Reflective Type Attenuated-Phase-Shifting-Masks for Sub-25 nm Extreme Ultraviolet Exposure Tools
作者 陳學禮 、 鄭旭君 、 洪鶯玲 、 朱鐵吉
頁次 24-29
出刊日期 200510

中文摘要

英文摘要

本卷期文章目次

查看更多

關鍵知識WIKI

相關文獻