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先進工程學刊
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| 篇名 | 化學氣相沉積鑽石薄膜經氫氣與氧氣電漿處理之磨耗與腐蝕性質 |
|---|---|
| 卷期 | 3:3 |
| 並列篇名 | Wear and Corrosion Properties of HFCVD Diamond Films after Hydrogen and Oxygen Plasma Treatment |
| 作者 | 李正國 、 陳慶鴻 、 吳東益 |
| 頁次 | 187-192 |
| 關鍵字 | 熱燈絲化學氣相沉積法 、 拉曼光譜儀 、 X光繞射 、 奈米壓痕分析儀 、 Hot filament chemical vapor deposition 、 Raman spectrometer 、 X-ray diffraction 、 Nano-indentation |
| 出刊日期 | 200807 |