篇名 | 非均溫化學法製備超薄鎳基奈米薄膜 |
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卷期 | 29:3/4 |
並列篇名 | Fabrication of Ni-Based Ultra Thin Film Using the Non-Isothermal Electroless Deposition |
作者 | 周育賢 、 宋鈺 、 葛明德 |
頁次 | 177-186 |
關鍵字 | 非均溫化學鍍 、 鎳基薄膜 、 積體電路 、 Nickel-based ultra-thin film 、 Non-isothermal deposition 、 Ultra-large scale integration |
出刊日期 | 200712 |