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防蝕工程 EIScopus
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| 篇名 | 光電化學蝕刻反應下n型 (100) 矽與氫氟酸溶液界面間之能帶圖研究 |
|---|---|
| 卷期 | 19:1 |
| 並列篇名 | Energy Bands for the Interface between n-type Si(100) and HF Solution in the Photoelectrochemical Etching Reaction |
| 作者 | 鄭文達 、 林景崎 |
| 頁次 | 83-89 |
| 關鍵字 | 能帶圖 、 矽蝕刻 、 光電化學 、 氫氟酸 、 Energy band diagram 、 Silicon etching 、 Photoelectrochemical reaction 、 Hydrofluoric acid 、 EI |
| 出刊日期 | 200503 |