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防蝕工程 EIScopus

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篇名 銅/鉭金屬化學--機械拋光過程中之伽凡尼腐蝕之研究
卷期 18:2、18:2
並列篇名 Galvanic Corrosion of Cu/Ta during Chemical-Mechanical Polishing
作者 陳瑞琴 、 蔡文達
頁次 155-162
關鍵字 銅 、 鉭 、 化學-機械拋光 、 伽凡尼腐蝕 、 CMP 、 Chemical-mechanical polishing 、 Copper 、 Tantalum 、 Galvanic corrosion 、 EI
出刊日期 200406

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