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科學與工程技術期刊

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篇名 以超高真空化學束磊晶系統成長氮化銦薄膜對結構特性之研究
卷期 6:1
並列篇名 Effect of Substrate Temperature on InN Films by UHV-Chemical Beam Epitaxy
作者 陳維鈞郭守義賴芳儀蕭健男
頁次 9-13
關鍵字 氮化銦薄膜化學束磊晶系統基板溫度Thin InN filmsChemical-beam epitaxy systemSubstrate temperature
出刊日期 201003

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