篇名 | 以超高真空化學束磊晶系統成長氮化銦薄膜對結構特性之研究 |
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卷期 | 6:1 |
並列篇名 | Effect of Substrate Temperature on InN Films by UHV-Chemical Beam Epitaxy |
作者 | 陳維鈞 、 郭守義 、 賴芳儀 、 蕭健男 |
頁次 | 9-13 |
關鍵字 | 氮化銦薄膜 、 化學束磊晶系統 、 基板溫度 、 Thin InN films 、 Chemical-beam epitaxy system 、 Substrate temperature |
出刊日期 | 201003 |