本論文針對金L慘雜氧化錚鋁(Gd-doped
Aluminum Zinc Oxide ' Gd : AZO) 透明導電薄膜(transparent conductive thin film)
進行材料特性最測分析,並且探討其與未慘
雜之氧化辦鋁(ZnO: Al2O3 = 98 wt.%:2wt.%) 薄膜光電特性差異。
本實驗利用共灑鍍系統(co-sputter)成長薄膜,以多層膜的方式將主釓摻雜氧化錚鋁薄膜灑鍍在石英玻璃(quartz )基板上,一共分成五層AZO/Gd/AZO/Gd/AZO,改變Gd與AZO在多層膜結構中厚度比例,得到不同濃度重釓摻雜氧化錚鋁導電薄膜。沉積以後經由適當的熱處理, 利用霍爾量湖
( Hall measurement )量測電性,且利用氧化錚鋁導電機制合理探討各種量測結果。經由本研究可知,Gd:AZO薄膜因具有良好之電性,因此羊毛替代氧化銦錫(ITO) 來當成透明導電層應用在氮化館發光二極體(GaN-based LED)上的潛力。