本研究在室溫下灘鍍（sputtering)鈷 鐵硼薄膜於玻璃基板上，並進行後退火處理 (post-annealingtreatment,Ta) ®Ta= 150°C ，持溫1小時，鈷鐵硼薄膜厚度（thickness, tf)介於1〇〇 A至500 A。針對鈷鐵硼薄膜 結構、接觸角（contact angle)及表面能 (surface energy)特性探討。X-ray 繞射 (X-Ray Diffraction，XRD)顯示在室溫 (Room Temperature，RT )下銘鐵硼膜是奈 米晶（nanocrystalline)結構，而且後退火 處理會增加結晶強度。鈷鐵硼薄膜表面能和 附著性（adhesion)有關，利用水作為試驗 溶液發現鈷鐵硼薄膜其接觸角大於90度。 這發現顯示鈷鐵硼是疏水性（hydrophobic )。在室溫下當膜厚增加從1〇〇 A到500A , 表面能從40 mJ/mm2減少到32 mJ/mm2。在 後退火處理下當膜厚增加從1〇〇 A到300A , 表面能從32mJ/mm2增加到35mJ/mm2。當 膜厚增加從300 A到500 A，表面能又降到 31 mJ/mm2。綜合表面能計算結果，當膜厚 增加在1 〇〇 A到200 A剛沉積（As-deposited) 鈷鐵硼薄膜的表面能大於後退火處 理，這表示剛沉積鈷鐵硼薄膜的附著性比較 好。