1986年第一部原子力顯微鏡（atomic-force microscopy ， AFM )， 因 IBM 與史丹 佛大學合作而正式問世。它利用探針與樣品 之間凡得瓦力的強弱變化，使樣品在接觸模 式下成像顯出樣品表面的形貌。AFM的出 現不但解決當時STM ( scanning tunneling microscope)量測表面須為導體的限制，而 且可以快速的得到表面的奈米層級結構及表 面化學特性的變化，因此AFM陸續受到廣 泛的重視與應用。由於AFM的發明，也帶 動了其他探針掃描式顯微鏡的發展，如在 AFM探針做改變所發展出的靜電力顯微鏡 (electrostatic force microscopy，EFM )、磁 力顯微鏡（magnetic force microscopy，MFM )、側向力顯微鏡（lateral force microscopy， LFM)、近場光學顯微鏡（near-field scanning optical microscopy， NSOM) 、 表面電 位顯微鏡（surface kelvin microscopy, SKM )、及表面電容顯微鏡（surface capacitance microscopy, SGM)等，以上這些儀器除了 跟AFM—樣可量測晶片表面的形貌之外， 也可以量測樣品表面磁場、電位、電容等的 變化。