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防蝕工程 EIScopus
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中文摘要
二元過渡金屬氮化物薄膜，如鈦(Ti)及氮化鈦(TiN)的良好性能已受到人們廣大關注，且Ti/TiN所形 成的雙層複合膜被預期成為多功能材料，氮化鈦薄膜透過氣體流量比氮氣/(氬氣+氮氣）=10%，並使用 直流式反應磁控濺鍍系統將雙層複合膜沉積在Si wafer和SS316L表面上，本研究透過X光繞射儀(XRD)、 掃描式電子顯微鏡、四點探針、恆電位儀、電化學阻抗譜、薄膜厚度輪廓測量儀等方法研究了添加Ti輔 助附著層對Ti氮化物膜的微觀結構、形貌、電學性能和電化學性能的影響，結果可知Ti / TiN雙層薄膜 微結構比單一的TiN膜層更穩定，且當金屬膜為氮化物膜時，膜的電阻率增加，最後可以觀察到雙層膜 表現出有較好的耐腐蝕性，其SEM形貌顯示更平滑可知具有更密型態的雙層結構有利於耐腐蝕性提升。