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陸軍後勤季刊
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中文摘要
一、本研究以發展直流電沉積Ni-Mo合金耐磨鍍層為目標，利用實驗設計分析鎳鉬主鹽比例（30：1、20：1、10：1）、電流密度（2、5、10ASD）及pH值（7.5、8.5、9.5）等27組製程參數對鍍層性質影響及鍍層磨潤特性。
二、實驗發現直流電沉積中，在低主鹽比（10：1）、低pH值（7.5及8.5）及低電流密度（2ASD），均為原始鐵基材的表面形貌，表明此條件下，無法形成Ni-Mo鍍膜。
三、實驗結果顯示直流電沉積中，在高主鹽比、高pH值及低電流密度，鍍層電流效率最高，鍍層較為致密、平整，最佳參數在鎳鉬主鹽比30：1、pH值9.5及電流密度2ASD，鍍層鉬含量為11.56wt.%，鍍層硬度達618HV，鍍層增重為1.304g，平均磨耗重量損失2.4×10-3mg/m。