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光連 ： 光電產業及技術情報

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篇名 3.2 ALD原子層沉積技術
卷期 特刊147
作者 葉國光 、 郭浩中 、 邱顯欽 、 林宜鋒 、 鍾佩翰
頁次 054-060
出刊日期 202003

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